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線性微透鏡陣列
簡介：

線性微透鏡陣列采用熔融石英和硅材料基底，由4個或8個透鏡組成。硅材料折射率高，可實現(xiàn)短焦距、高數(shù)值孔徑透鏡陣列設(shè)計，而熔融石英具有良好的熱穩(wěn)定性和可見光傳輸，便于對準(zhǔn)。線性微透鏡陣列用于在光纖到光纖或激光到光纖應(yīng)用中準(zhǔn)直和耦合光纖陣列，例如與半導(dǎo)體激光二極管一起使用。 這些透鏡為近紅外（NIR）設(shè)計了增透鍍膜，用于1310和1550nm，是近紅外激光器或電信設(shè)備的理想選擇。
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產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品特點：

  • 熔融石英和硅基底
  • 1x4 和 1x8 透鏡陣列配置
  • 是光纖耦合和準(zhǔn)直的理想選擇
  • 透鏡剖面: Spherical

類型

尺寸 (mm)

間距 (μm)

涂層

Mode Field Diameter (mm)

產(chǎn)品

編碼

單價

1 x 4

Linear Array

2.05 x 1.30

250

BBAR (1260-1675nm), Lens Side

Source: 0.0104 Target: 0.085

21-172

805

1 x 8

Linear Array

3.05 x 1.30

250

BBAR (1260-1675nm), Lens Side

Source: 0.0104 Target: 0.085

21-173

935

1 x 4

Linear Array

4.30 x 2.05

750

BBAR (1250-1620nm)

Source: 0.0092 Target: 0.25

21-174

805

1 x 8

Linear Array

7.30 x 2.05

750

BBAR (1250-1620nm)

Source: 0.0092 Target: 0.25

21-175

935

1 x 4

Linear Array

1.45 x 0.70

250

BBAR (1250-1620nm)

Source: 0.0092 Target: 0.08

21-176

805

1 x 8

Linear Array

2.45 x 0.70

250

BBAR (1250-1620nm)

Source: 0.0092 Target: 0.08

21-177

935

1 x 4

Linear Array

4.45 x 2.20

750

BBAR (1250-1620nm)

Source: 0.0104 Target: 0.25

21-178

805

1 x 8

Linear Array

7.45 x 2.20

750

BBAR (1250-1620nm)

Source: 0.0104 Target: 0.25

21-179

935

1 x 4 Linear Array

4.45 x 2.20

750

BBAR (1250-1620nm)

Source: 0.0092 Target: 0.25

21-180

805

1 x 8

Linear Array

7.45 x 2.20

750

BBAR (1250-1620nm)

Source: 0.0092 Target: 0.25

21-181

935

1 x 4

Linear Array

4.45 x 2.20

750

BBAR (1250-1620nm)

Source: 0.003 Target: 0.25

21-182

805

1 x 8

Linear Array

7.45 x 2.20

750

BBAR (1250-1620nm)

Source: 0.003 Target: 0.25

21-183

935



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