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極紫外 (EUV) 球面反射鏡
簡介:

極紫外 (EUV) 球面反射鏡具有多層鉬/硅鍍膜,在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它們專為 5o 入射角設計,并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS,可最大程度地降低散射。這對 EUV 波長必不可少,因為 EUV 波長的散射比長波長更多. TECHSPEC EUV 球面反射鏡的通帶非常窄,約為 0.5nm,確保只會在高諧波生成 (HHG) 應用中反射 13.5nm 的關注諧波。EUV 球面反射鏡的 典型應用包括相干衍射極紫外 (EUV) 球面反射鏡具有多層鉬/硅鍍膜,在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它們專為 5o 入射角設計,并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS,可最大程度地降低散射。這對 EUV 波長必不可少,因為 EUV 波長的散射比長波長更多. TECHSPEC 成像 (CDI)、EUV 成像和 EUV 納米加工.

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產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品特點

  • 超拋光基片上的鉬/硅多層鍍膜
  • 13.5nm 下可實現(xiàn)的最大反射
  • 設計用于 EUV 光束聚焦應用
  • 適用于 HHG 應用的窄通帶

設計波長 DWL (nm

直徑 (mm)

有效焦距

EFL (mm

產(chǎn)品編號

單價(元)

13.5

25.40 +0.00/-0.13

250

#11-730

31450





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